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证券之星音讯，依据天眼查APP多个方面数据显现仕佳光子（688313）新取得一项发明专利授权，专利名为“PLC晶圆上包层厚膜成长工艺”，专利申请号为CN1.8，授权日为2025年4月4日。
专利摘要：本发明提出了一种PLC晶圆上包层厚膜成长工艺，用以处理现有工艺成长的上包层厚度偏薄，不能够满意实践功能需求的技术问题。本发明提出一种PLC晶圆上包层厚膜成长工艺，要求上包层接连进行至少四次成长和退火，上包层厚度满意要到达32μm以上的要求，且添加退火过程和退火时刻，与成长过程中调整掺杂硼烷和磷烷两种气体的流量的手法一起到达减小BOW值的意图，使得BOW值小于250μm；在不运用盖板对芯片进行维护的情况下，PLC晶圆的上包层对维护波导不受外力和杂质腐蚀的才能满意规则的要求，在切开磨抛过程中维护芯层波导，削减由于崩口等原因引发良率的丢失，且上包层厚度添加，使截面积变大，在后段的封装过程中，可提高芯片与光纤阵列衔接的功率。
今年以来仕佳光子新取得专利授权3个，与去年同期相等。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研制方面投入了5386.83万元，同比增9.3%。
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证券之星估值剖析提示仕佳光子行业界竞争力的护城河优异，盈余才能比较差，营收成长性一般，归纳基本面各维度看，股价偏高。更多
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